Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения


Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения
Отслеживая новые тенденции в продуктах и ​​технологиях искусственного интеллекта, современная наука уделяет основное внимание отчетности AI. И вот именно это обстоятельство послужило тому, что Китай сделал новые прорывы в области производства чипов!

Согласно имеющейся у ИА «Экспресс-Новости» информации, после почти семи лет напряженной работы проект «Решения по литографическому оборудованию с высокой разрешающей способностью» прошел тестовое испытание. Это означает, что Китай теперь имеет первое в мире высокоуровневое литографическое оборудование с ультравысоким разрешением (т.е. 22 нм при 365 нм). Другими словами, китайские ученые разработали очень мощную литографическую машину, которая является основным оборудованием для производства чипов. И это притом, что Китай всегда подвергался противодействию в индустрии чипов, особенно в области литографических машин, и часто сталкивается с различными ограничениями.

Справка ИА «Экспресс-Новости»: разработанная Китаем литографическая машина имеет максимальное разрешение ширины линии 22 нм при одной экспозиции на длине волны 365 нм. В принципе, проект прорывается через дифракционный предел разрешения и устанавливает новое направление исследований и разработок в области нанолитографического оборудования с высоким разрешением для обхода иностранных барьеров интеллектуальной собственности. В этой разработке есть много интересных моментов, среди которых меньшие нано-процессы. Это решение производителя литографической машины позволяет использовать источники света с более короткими волнами.

Источником света наиболее широко используемой литографической машины в зарубежных странах является ультрафиолетовый лазер с длиной волны 193 нм с разрешением литографии всего 38 нм и длиной волны воздействия около 0,27. Китайская же литографическая машина может достигать 22 нанометров. Кроме того, «в сочетании с технологией двойного воздействия, в будущем она может также использоваться для производства микросхем на 10-нанометровом уровне». То есть, литографическая машина, разработанная Институтом оптоэлектроники Китайской академии наук, использует источник света с более длинной волной (около ультрафиолета) и более низкой стоимостью (ртутная лампа) для достижения более высокого разрешения литографии (0,06 длины волны экспозиции).

Ху Сонг, заместитель главного конструктора проекта и исследователь Института оптоэлектронной технологии Академии наук Китая, так прокомментировал разработку: «Это эквивалентно использованию очень толстого ножа для гравировки очень тонкой линии. Это так называемый предел дифракции разрешения прорыва». Да и стоимость работы оборудования лежит в более комфортных условиях, поскольку, чем короче длина волны, тем выше стоимость. С другой стороны, для получения более высокого разрешения литографическая машина традиционно улучшалась за счет сокращения световой волны и увеличения числовой апертуры системы формирования изображений. Но проблема в том, что технические трудности чрезвычайно высоки, а стоимость оборудования также чрезвычайно высока.

Последняя литографическая машина последнего поколения ASML использует более короткую длину волны ультрафиолетового излучения - 13,5 нм (EUV) для производства чипов при процессах 14 нм, 10 нм и 7 нм. Одна такая машина имеет стоимость в сумму более $100 миллионов. Оборудование же Института оптоэлектроники Китайской академии наук использует более длинноволновый и более общий ультрафиолетовый свет. Это означает, что эти литографические машины используют недорогие источники света для достижения литографии с более высоким разрешением.
Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения

Некоторые интернет-пользователи уже отметили, что литографическая машина китайского производства может быть такой же, как и другое высокотехнологичное оборудование, производимое Китаем. Тем более что появление этой техники имеет еще одно важное значение:

Реализация проекта литографического оборудования с высоким разрешением разрушила монополию зарубежного литографического оборудования высокого класса, обеспечила новое решение для нанооптической обработки. Также она дала толчок развитию передовых стратегических областей, таких как информационные технологии нового поколения, новые материалы и биомедицинские технологии. Ху Сонг рассказал в беседе с корреспондентами ИА «Экспресс-Новости» о том, что «Первая из этих машин уже очень скоро появится на международном рынке. При этом она не будет иметь аналогов, поскольку изначально ее производство будет находиться под охраной международной патентной организации».

Между тем, эксперты уверяют, что появление этого оборудования не означает, что китайское производство чипов сможет быстро добиться прогресса. С одной стороны, производство чипов - это огромное промышленное направление. С другой стороны, литографическая машина Института оптоэлектроники Академии наук Китая имеет определенные ограничения. Так, по имеющимся данным, современное оборудование подготовило серию нанофункциональных устройств, в том числе тонкопленочных зеркал большого диаметра, сверхпроводящих нанопроволочных однофотонных детекторов, устройств излучения, биохимических чипов датчиков, устройств для поверхностного изображения и т.д. Проверено: Технологическая способность нанофункционального устройства достигла практического уровня.
Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения

То есть в настоящее время это в основном некоторые устройства в области оптики и тому подобное. Однако некоторые эксперты отмечают, что «с текущими техническими возможностями для создания сложных ИС могут использоваться только периодические линии и решетки». Эта технология, как говорят, «в краткосрочной перспективе, ее нельзя применять в области производства ИС, невозможно сотрясать ASML в области производства ИС ... но она создала определенную угрозу, и в конечном итоге, все же, можно добиться более важных прорывов».






Литографическая машина Китая


В настоящее время основными производителями литографических машин в мире являются ASML в Нидерландах, Nikon в Японии и Canon. Среди них число технологий SML является самым передовым. Есть также компании, производящие литографические машины в Китае, такие как оборудование микроэлектроники Шанхая, но технический уровень далеко отстает от ASML. Литографическая машина, выпускаемая в настоящее время Shanghai Microelectronics Equipment, может обрабатывать только 90-нм технологический чип, который является самым высоким уровнем отечественной литографической машины. ASML уже имеет массовые 7-нанометровые литографические машины EUV, по крайней мере, более десятилетия.

Бытовые производители чипов, такие как SMIC и Changjiang Storage, должны покупать литографические машины от ASML по высокой цене. В мае этого года Nikkei Asian Review сообщил, что SMIC разместила литографическую машину EUV стоимостью $120 миллионов, которая, как ожидается, будет поставлен в начале 2019 года. Кроме того, в этом году Changjiang Storage также приобрела инфильтрационную литографическую машину от ASML по цене в $72 миллиона.
Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения


Чтобы устранить монополию на рынке, еще в 2012 году Институт оптоэлектроники Академии наук Китая взял на себя задачу разработки национального проекта научно-исследовательского оборудования для литографического оборудования сверхвысокого разрешения. В то время у специалистов еще не было никакого опыта. Но в течение последних 7 лет команда проекта пробила ключевые технологии высокой однородности освещения, линзы с высокой разрешающей способностью, разрешение на основе наноразрешений и измерение зазора, и сверхточную таблицу заготовки с множеством степеней свободы, и контроль, обеспечив высочайшее разрешение в мире.

Исходя из этого, команда проекта также объединила технологию травления с высоким коэффициентом абразивного и многократного паттерна, разработанную проектом литографического оборудования с высоким разрешением, чтобы реализовать обработку графики размеров объектов ниже 10 нм. Кроме того, в рамках этого проекта также было опубликовано 68 статей, подано 92 национальных патента на изобретения, в том числе 47 разрешений, 8 международных патентов, 4 разрешения. Также подготовлена для этой страны литографическая технология и оборудование для сверхтонких разрешений для науки.
Китай выпустил самую мощную литографическую машину ультравысокого разрешения ультрафиолетового излучения

#Машина #Технологии #Чип #Производство #Инновации #Ученые #Китай

Понравилась статья? Поделиться с друзьями: